超純水設(shè)備EDI的清洗

        EDI超純水設(shè)備在運(yùn)行中會(huì)出現(xiàn)污堵等現(xiàn)象，需要對(duì)EDI進(jìn)行正確的清洗以及消毒，以保障超純水設(shè)備的正常運(yùn)行。水處理之家網(wǎng)詳細(xì)講述EDI超純水設(shè)備的清洗與消毒方法及其注意事項(xiàng)。

1.EDI超純水設(shè)備清洗原因

隨著工作時(shí)間的累積，需要對(duì)EDI模塊進(jìn)行清洗及消毒，這是因?yàn)椋?/span>
– 硬度或金屬結(jié)垢，主要產(chǎn)生在濃水室內(nèi)
– 在離子交換樹(shù)脂或膜形成無(wú)機(jī)物污垢（例如，硅）
– 在離子交換樹(shù)脂或膜形成有機(jī)物污垢
– EDI模塊和系統(tǒng)管道及其它部件的生物污垢
– 以上所有情況一起出現(xiàn)

2.EDI超純水設(shè)備清洗程序及模式

清洗程序

清洗程序 1: 濃水管線清洗及消毒

清洗程序 2: 淡水管線清洗及消毒

清洗程序 3: 極水管線清洗及消毒

清洗及消毒模式
****清洗模式：直通，逆流（低及 高 pH值都可）；再循環(huán)（氧化劑）
可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)
注意: 由于硬度結(jié)垢幾乎完全發(fā)生在濃水室和極水室，淡水室的低PH清洗并不常用。在極端嚴(yán)重結(jié)垢或十分混亂的條件下，需要保留淡水室的低PH清洗。

EDI超純水設(shè)備清洗及說(shuō)明

對(duì)于清洗系統(tǒng)和消毒系統(tǒng)而言有四種類型：低pH值型;高pH值型;低濃度氧化消毒清洗型；及高溫消毒型 。關(guān)于低 pH值型，高 pH值型，低濃水氧化消毒清洗型，及高溫消毒型的描述在下面的內(nèi)容中作詳細(xì)闡述。當(dāng)需要選擇高溫消毒時(shí)，則要啟動(dòng)高溫消毒程序。
單獨(dú)的清洗及消毒程序只針對(duì)淡水，濃水及極水管線而言。清洗及消毒的循環(huán)過(guò)程可獨(dú)立完成。獨(dú)立的循環(huán)程序也可同時(shí)進(jìn)行以減少總的清洗時(shí)間。由于極水循環(huán)的低清洗流速，大多數(shù)情況下清洗過(guò)程必須同時(shí)與濃水循環(huán)清洗和淡水循環(huán)清洗同時(shí)進(jìn)行。清洗水箱及水泵是必備的（CIP系統(tǒng)）。總共需要五條清洗流水線：兩個(gè)進(jìn)口（淡水進(jìn)口和濃水進(jìn)口） 以及三個(gè)出口（淡水出口，極水出口和濃水排放）。